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铼靶
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参数
铼靶材用于磁控溅射镀膜，磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相（PVD）镀膜方法，相比于蒸发镀膜方法，其在许多方面有相当显着的优势，作为一项已经生长得较为成熟的手艺，磁控溅射已经被应用于许多领域，好比在半导体集成电路、太阳能光伏、纪录介质、平面显示以及工件外貌涂层等方面都获得了普遍应用。
湖南凯时国际娱乐接纳本企业生产的高纯金属铼粉可为用户专业生产加工种种规格溅射靶材，纯度高、密度高、致密匀称、晶粒细，具有优良导热性，从而包管靶材的高效率和高使用率。
规格：纯度Re≥99.99%~99.999%，形状、尺寸、密度接受种种定制产品。
要害词:
铼溅射靶
溅射铼靶
磁控溅射镀膜铼靶
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